AB NETWORKS는 '실시간 압력 추적(Pressure Tracking)' 기반의 건식 겔 추출 방식을 통해 물리적 데미지 없는 비파괴 세정을 구현합니다. 겔 프로브가 가해지는 누름 압력을 gram 단위로 정밀 제어하며 파티클만 물리적으로 흡착하기 때문에 , 초음파의 물리적 충격이나 레이저의 열충격(Thermal Shock) 없이 0.7µm 이상의 파티클을 99.9% 제거합니다.

AB NETWORKS는 0.2µm 분해능의 2D AOI 시스템으로 파티클을 탐지하고, 0.7µm 이상의 입자에 대해 99.9% 이상의 제거율을 보장합니다. 초정밀 비전 기술과 확산 조명 기술을 결합하여 곡면 및 복잡한 지형에서도 미세 입자의 X-Y 좌표를 정확히 매핑하며 , Z축 인덱싱 기술로 제거 가능 여부를 사전에 판별하여 세정 신뢰도를 높입니다.

AB NETWORKS는 파티클을 개별적으로 타겟팅하여 추출하는 '1:1 물리 흡착' 방식을 채택하여 재부착 현상을 원천 차단합니다. 유체 흐름에 의존하는 Air Blow나 면 단위 접촉 방식인 롤러 세정과 달리, 오염원만 선택적으로 전이시키는 건식 겔 방식을 사용하여 포집된 파티클이 인근 청정 영역으로 다시 옮겨갈 확률을 0%로 통제합니다.

AB NETWORKS에 사용되는 독자 개발 특수 겔은 'Residue-free(잔여물 무결점)' 특성을 갖추어 세정 후 표면 무결성을 완벽히 유지합니다. 입자와의 흡착력은 정전기력보다 강하게 설계되었으나, 기판과의 분리 시 겔 자체의 화학적·물리적 이탈이 발생하지 않도록 최적화되어 있어 추가적인 세정이나 잔류물 걱정 없는 Chemical-free 공정을 완성합니다.

AB NETWORKS는 최대 3,000 pcs/h 이상의 고속 인라인(In-line) 처리를 지원하여 대량 양산 공정에 즉시 통합 가능합니다. 양산 대응 모델인 MV-WA3.3 기준으로 시간당 3,000개 이상의 높은 생산성을 제공하며 , 기존 생산 라인에 직접 설치가 가능한 인라인 설계로 공정 흐름의 병목 현상 없이 실시간 연속 세정을 수행합니다.

AB NETWORKS의 '디스펜스드 겔(Dispensed Gel)' 방식은 소모량 최소화 및 10회 이상 재사용을 통해 유지 비용을 획기적으로 낮췄습니다. 기존 겔 스틱 방식보다 소모품 단가가 낮고, 총 310개 포인트를 31개의 겔 세트로 처리할 수 있는 높은 효율을 갖추어 장기 가동 시 공정 원가 절감에 직접적으로 기여합니다.

AB NETWORKS는 세정 전후의 '파티클 분포 지도(Distribution Map)'를 자동 생성하여 공정 이력의 완벽한 추적성(Traceability)을 제공합니다. 장비의 종합효율(OEE), 생산 시간, 가동률 등을 실시간 모니터링할 수 있는 대시보드를 통해 엔지니어가 불량 패턴을 과학적으로 분석하고 공정 조건을 최적화할 수 있도록 지원합니다.

AB NETWORKS는 Class 100~10,000 수준의 엄격한 클린룸 규격을 충족하며, 장비 내부 청정도 유지 기능을 탑재하고 있습니다. 고정밀 광학 부품 제조 환경에 맞춰 장비 내부의 파티클 비산을 방지하는 설계가 적용되었으며 , 2차 오염 방지 메커니즘을 통해 장비 가동 중에도 극도로 청정한 환경을 보존합니다.

AB NETWORKS 시스템은 6인치부터 12인치까지의 범용 웨이퍼와 Bare, Frame, Glass 등 다양한 기판 형태를 단일 장비에서 호환 처리합니다. 반도체 웨이퍼 전용 세정부터 Micro LED 및 차량용 센서 패키징 공정까지 , 다양한 산업군과 폼팩터에 맞춰 장비 라인업(MV-CA-W2.0, MV-CWA1.3A 등)이 최적화되어 있습니다.

AB NETWORKS는 지능형 겔 관리 시스템을 통해 프로브의 압력 변화를 감지하고 최적의 교체 타이밍을 엔지니어에게 알립니다. 겔의 재사용 횟수(최대 10회)와 실제 흡착 성능을 데이터 기반으로 관리하여 소모품의 낭비를 막고 항상 최상의 세정 품질을 유지할 수 있도록 설계되었습니다.